El proceso de reducción de semiconductores para la reutilización de aguas residuales

Las principales impurezas de las aguas residuales del corte de semiconductores son aguas residuales industriales que contienen partículas de silicio solubles en agua y agentes de limpieza. La descarga directa causará contaminación al medio ambiente y, para utilizar de manera total, racional y efectiva los recursos hídricos, las aguas residuales del corte generalmente se filtran directamente en agua ultrapura para su reutilización.

El proceso de filtración de semiconductores cortando la reutilización de aguas residuales: 

Agua cruda-filtración primaria-filtración de precisión-ultrafiltración-filtración por ósmosis inversa-sistema EDI-agua ultrapura

1.Filtración primaria

Las aguas residuales de corte recolectadas se bombean a través de una bomba de agua cruda a un sistema de filtrado conectado a su vez por un tanque de arena de cuarzo, un tanque de carbón activado y un descalcificador para filtrar partículas grandes de silicio y parte del material en suspensión.

2.Filtración de precisión

Para una filtración más precisa del filtrado después de la filtración primaria, se utiliza el sistema de filtración de seguridad para eliminar impurezas del líquido, como por ejemplo partículas de silicio más pequeñas. Prolonga la vida útil del sistema de ultrafiltración de siguiente etapa y reduce el costo de filtración. El cartucho fundido-soplado Hongtek generalmente se instala en el sistema de filtración de seguridad y las especificaciones más utilizadas son las siguientes:

Cartucho soplado en fusión de PP serie NPP de 40" y 5 micrones

3.Ultrafiltración

Utilizando una bomba de alta presión, el filtrado se bombea a un sistema de ultrafiltración para un tratamiento de filtración, para eliminar una parte de las partículas de silicio solubles en agua, la grasa y otras sustancias del agua residual del detergente. Después de esto, el filtrado se introduce en el tanque de agua.

4.Filtración por ósmosis inversa

El filtrado en el tanque de agua se bombea al sistema de filtración por ósmosis inversa a través de una bomba de alta presión para eliminar las partículas de silicio solubles en agua restantes y la grasa y otras sustancias en las aguas residuales del agente de limpieza, y luego se carga en el tanque de agua.

5.Sistema EDI

El líquido procesado para el tratamiento de ósmosis inversa se bombea al sistema EDI mediante una bomba de refuerzo y los iones del líquido se eliminan mediante una tecnología de intercambio iónico. Después de eso, se carga en un tanque de agua de alta pureza para su reutilización en producción.